Nová průmyslová technologie povlakování
Podobné dokumenty
Tenké vrstvy
Fyzikální metoda depozice vrstev PVD – technologie je založena na fyzikálních principech, odpaření nebo odprášení materiálů obsažených ve vrstvě (např. Ti, Al, Si, Cr, atd.) a jejich následné nanes...
VíceTenké vrstvy
• Výhodou jsou relativně nízké náklady na zařízení a řízení procesu. Z toho vyplývá vhodnost pro velkovýrobu i střední výrobu a slučitelnost s ostatními výrobními postupy. • Použití této metody je ...
VíceTD a DD pro CZP 05 y - Centrum pro teoretická studia
diferenciální rovnice a teorie dynamických systémů). Na tom není nic překvapujícího, protože matematika je idealizovaným, a proto ideálním pojítkem mezi odbornými disciplínami – tedy v jistém smysl...
VíceStáhnout článek o tribologické analýze
Změna poloměru se však promítne na teplotě funkčních stykových ploch „PIN“ tělíska a analyzovaného vzorku. Na malém poloměru nebude mít teplo tolik času na přechod do okolní atmosféry, bude docháze...
VíceVLIV TVARU ŘEZNÉ HRANY NÁSTROJE NA PRŮBĚH ŘEZNÉHO
obr. 1 je viditelný zmíněný nárůst množství vrstev na našem trhu. Na počátku byla vrstva TiN, později se k této modifikaci přidaly systémy TiCN a CrN a samozřejmě dodnes velmi používaná vrstva TiAl...
Víceobráběcí nástroje
TiSiN. Jeho výjimečná výkonost je dána patentovaným depozičním procesem, při kterém vzniká skutečný nanokompozitní materiál tvořený měkčí matrici TiN, ve které precipitují tvrdé nanokrystaly Si3N4.
VícePlace of The Conference: Hotel Soláň, Beskydy, Czech Republic
conference “ up to 11th September 2015. Variable Code: 1910, Constant Code: 0308, Text: Participant Name (Company). If payment is not received by the time of the conference it is regretted that adm...
VíceTechnologie řezání kovů plasmou
a dynamických účinků plazmatu. Mezi elektrodou a řezaným materiálem hoří při současném dodávání plazmového plynu elektrický oblouk koncentrovaný pomocí chlazené trysky a fokusačního (ochranného) pl...
Více