Možnosti spolupráce na vědeckém programu Laserové systémy ELI
Transkript
Praha, FZU, 24 November 2011 Projekt: Výzkum a vývoj femtosekundových laserových systému a pokročilých optických technologií (CZ.1.07/2.3.00/20.0091) Možnosti spolupráce na vědeckém programu Laserové systémy ELI-Beamlines Pavel Bakule for ELI beamlines Hlavní cíle laserového centra Hlavním cílem ELI-BL generace fs pulsů o špičkovém výkonu až 10PW a jejich využití ke generaci sekundárních zdrojů záření: • Generace pulsů monochromatického a širokopásmového rentgenovského záření s energií fotonů až MeV • Urychlování elektronů 2 GeV při 10 Hz, 100 GeV nízká opak. Freq. • Urychlování protonů 200-400 MeV 10 Hz; 3 GeV nízká opak. F. Světelný puls 5 femtosekund = 5x10-15 s Rentgenové záření UV záření Gama záření Elektrony Protony Nabité částice Délka pulsu v prostoru = 1.5 µm Pozn.: lidský vlas = cca 100 µm Unikátnost celého centra spočívá v tom, že bude k dispozici nejenom široké spektrum různých zdrojů záření a urychlených částic, ale že je možné je krátké pulsy vzájemně synchronizovat (na ca.100fs) ELI laser systems Thin disk Yb:YAG femtosecond Cryogenic Oscillator Ti:sapphire multislab Yb:YAG Amp OPCPA Cryogenic multislab Yb:YAG Nd:YAG Ti:sapph Ti:sapph RT Multislab Nd:Glass Ti:sapphire Laser building layout First floor 10 PW laser L4 Support technologies, cryogenic systems, cooling systems Ground floor Laser halls (L1 – L4) Basement Compressor hall for 10-PW lasers Pulse distribution in vacuum 6 specialized Experimental halls Oblasti vývoje a integrace Vývoj FZÚ firmy L1 systems 1 kHz BL na bázi tenkých disků, včetně front end, synchronizace, předzesilovačů, OPCPA, stabilizace L2 systems 10 Hz BL na bázi Yb:YAG multislabů, vývoj nových technologií čerpacích laserů až 100J v pulsu, Ti:safír, OPCPA zesilovače, kryogenní chladící okruhy L3 systems 10 Hz BL na bázi Nd:glass multislabů (diodové čerpání), vývoj nových technologií čerpacích laserů až 300J v pulsu, Ti:safír, kompletní systém 1.5 PW na klíč L4 systems 10 PW BL na bázi Nd:glass multislabů (výbokové čerpání), čerpací laser 1500 J na klíč (integrace FZU) Control systems Centrální a lokální řídící systémy na bázi EPICS, NI labview, PXI … + bezpečnostní interlocky (bezpečnost osob, bezpečnost zařízení) Vývoj/integr ace FZU) Firmy Pulse distribution Systém distribuce fs pulsů ve vakuu, včetně zobrazovacích teleskopů, velké re-konfigurovatelné optomechaniky, řídícího systému, Pavel Korouš Vývoj/integr ace FZU) Firmy Experiment ální haly E1-E6 Generace sekundárních zdrojů záření a urychlování částic Interakční komory, betatron, urychlování elektronů ….. Georg Korn Vývoj/integr ace FZU) Firmy integrace FZÚ firmy Firmy (integrace FZU) Firmy L2 systems Nové technologie – multideskové kryogenně chlazené zesilovače Parametry zesilovače • 2 zesilovače v každém z nich 8 disků (Yb:YAG) • kryogenické chlazení160 K • Yb:YAG/(glass) čerpaná oblast E1 • Cr:YAG 30 mm absorpční oblast E2 (k potlačení ASE) Technologie vyvíjená v Anglii RAL/STFC umožnující generaci až 100 J v pulzu při vysoké opakovací frekvenci 10Hz (délka pulzu 2ns) Spolupráce s HILASE Courtesy K. Ertel and J. Collier (RAL/STFC) L2 systems Nové technologie – multideskové kryogenně chlazené zesilovače L2: čerpací laser Podobná technologie byla demonstrována i v LLNL: 60 J/10 Hz Mercury laser Transfer lines Helium cooling circuit Amplifier head Cryostat Study of layout of a Yb:YAG 100 J system for ELI-Beamlines and HiLASE According to RAL/STFC (courtesy of K. Ertel and J. Collier) L4 systems Nové technologie – kombinace Nd:skel Aktivní medium – kombinace Nd:skel : vysoká energie a šířka pásma odpovídající <130 fs * Texas Petawatt laser: 185 J / 130 fs – scalable -> 1900 J /130 fs • Ideální délka pulzu a energie na urychlování elektronů • Laser lze později použít jako čerpací laser na čerpání OPCPA širokopásmového zesilovače * ELI - Extreme Light Infrastructure White Book: Science and Technology with Ultra-Intense Lasers edited by G. Mourou, G. Korn, W. Sandner and J. Collier (2011) L4 systems Čerpací laser k dosažení 10PW Navrhovaná architektura Vizualizace Integrace do L4 L4 systems Kompresor 1.5 kJ pulzů / 150 fs L2 systems - L2-L4 možnosti spolupráce Vývoj systémů pro diagnostiku pulzu Stabilizace optické dráhy Specializovaná optomechanika Integrace lokálnich řídících systémů do systému EPICS Řešení vzájemné synchronizace laserových systémů Výroba a návrh kompresorů pulsu Kryogenní technologie Vakuové technologie L1 systems L1– Technologie tenkých disků Umožňuje kHz opakovací frekvence a vysoké energie v pulsu Čerpací lasery L1 musí dosáhnout energie až 1.5 J/puls při 1kHz a 2 ps délce pulsu Parmetry disku tlouštka: 100 - 900 µm průměr: 10 - 35 mm Thomas Metzger, MPQ L1 systems L1 beamline – vývoj na FZU Fáze 1 >30 mJ/<30 fs/1kHz Fáze 2 >200 mJ/<20 fs/1kHz L1 systems L1: Thin disk :Pump laser 1030 nm Regenerative amplifier Multipass amplifier Čerpací hlava s tenkým diskem PC VÝSTUP VSTUP Regenerativní zesilovač M² < 1.1 Metzger et al. Opt. Lett. 34, 2123 (2009) @ 25 mJ; 3 kHz L1 systems Kompresor pulsu 1.5J na 1.5 ps +L1 pikosekundové OPCPA Schematic design completed in Dec 2011 Detailed design to be produced in 2012 L1 front end Front end laser systems & synchronization Unique strength of the ELI beamlines project is that we will have different laser amplifier chains (beamlines) in the same building and this allows for time synchronization of the laser beams delivered to experimental halls. This scheme allows setting any delay with fs accuracy L1 front end Synchronizing multiple oscillators fs synchronization can be only done optically using optical cross correlation technique. Integrated timing jitter 0.4 fs rms JUNGWON KIM, JONATHAN A. COX, JIAN CHEN AND FRANZ X. KAERTNER nature photonics | VOL 2 |DECEMBER 2008 Distribuce optických hodin Stabilizované optické vlákno. Existují i komerční řešení JUNGWON KIM, JONATHAN A. COX, JIAN CHEN AND FRANZ X. KAERTNER nature photonics | VOL 2 |DECEMBER 2008 L1 systems L1 možnosti spolupráce Front end: • Části HW a SW pro centrální timing systém • Rychlé HV spínací obvody pro elektrooptické krystaly • Vývoj řídícího systému, ochrana před poškozením • Vývoj zařízení pro diagnostiku pulsu pro vysoké prf • Metody zvýšení kontrastu pulsů • Metody stabilizace optické dráhy • optická synchronizace L1 (1kHz) • SHG na 1.5 kW • Stabilizace čerpacího a širokopásmového pulsu na 100fs • Vývoj a modelování OPCPA zesilovačů, diagnostika pulsů ve vakuu… Control systems Řídící systémy EPICS Soubor autonomních lokálních systémů integrovaných pomocí EPICS Control systems Laser control systems Control systems Možnosti spolupráce - Integrace lokálnich řídících systémů do systému EPICS - Řešení komponent laserového interlocku - Mechatronika – standardizovaný systém řízení a nastavování optomechanických prvků ve vakuu a integrace do EPICS příp. Labview - Návrh a realizace systému rychlého sběru dat z diagnostiky pulsu a experimentů, online a offline analýza dat, kompatibilita s EPICS … - Zákaznická elektronika, vývoj SW Pulse distribution Přenos fs pulsů do experimentů Spolupráce na vývoji - prototypování velkých vakuových systémů - Vývoj zakázkové optomechaniky - Řídící systém (vakuum, nastavení dráhy svazku, bezpečnost) - Instalacce a integrace do budovy Nyní prototypován Vakuový reflexní teleskop Level I Technical design Formy spolupráce • Zaměstnání studentů a zaměstnanců se žádanými znalostmi na častečný úvazek, společné řešení, společné publikace • Zapůjčení přístrojů, optiky, majetku zakoupeného z projektu ELI k řešení zadání pro potřeby projektu • Financování zakázkového výzkumu a vývoje a konkrétních řešení nad 200 tis. Kč je možné pouze na základě výběrového řízení. Tyto jsou průběžně zveřejňována na stránkách FZU a ELI-beams.eu. Dle složitosti a velikosti zakázky je doba od přípravy VŘ do podpisu smlouvy 2 měsíce až 1 rok ELI Beamlines team & collaborators B. Rus, P. Bakule, F. Batysta, P. Bumba, J. Clements, A. Ferrari1, J. Čáp2, P. Contos, V. Chocenský, M. Divoký, M. Fibrich, M. Griffiths, R. Haley3, T. Havlicek, J. Hrebicek, P. Homer, J. Hopp, J. Houzvicka, P. Hribek, R. Hvezda, J. Jandourek, L. Juha, M. Kokta, G. Korn, P. Korouš, M. Košelja, M. Kozlová, D. Kramer,M. Krus, J.C. Lagron4, J. Limpouch5, K. Macuchová, M. Mead, L. McFarlane3, M. Malý, D. Margarone, P. Matlas, T. Metzger5, F. Millet, L. Mindl, J. Moravec 7, T. Mocek, J. Nejdl, J. Novák, V. Olšovcová,M. Paletka 8, L. Peksa, J.P. Perin 9, J. Polan, J. Prokupek, J. Ridky, K. Rohlena, V. Ruzicka, M. Sawicka, L. Scholzová, S. Sebban 10, D. Snopek2, P. Strkula, L. Švéda2 Institute of Physics v.v.i., Prague 8 1 FZD Dresden-Rossendorf, Germany 2ELYA Solutions s.r.o., Prague 10 3Nuclear Technologies plc, U.K. 4Univ. Paris-Sud, France 5Czech Technical University, Prague 6MPQ Garching, Germany 7Foton s.r.o., Czech Rep. 8 UPOL Olomouc, Czech Rep. 9 SBT-CEA Grenoble, France 10 LOA-ENSTA, Palaiseau, France
Podobné dokumenty
D. Kramer - ELI – extreme light infrastructure
• je možné použít vysokou intenzitu čerpání (10
kW/cm2)
• výkon lze zvyšovat zvětšením velikosti svazku (d2)
•Nevýhodou je nízký zisk na 1 průchod
SH-7000Series
● Možnost použití široké škály přídavných aparátů,
které urychlí a zefektivní Vaši výrobu.
Newsletter 3 - ELI – extreme light infrastructure
Vytváří návrh na řešení
stavby na novostavbu
budovy laserového centra ELI v Dolních Břežanech.
www.bfls-london.com
ELI Beamlines Newsletter 4 - ELI – extreme light infrastructure
disku). Využívají dva typy zesilovačů s různou opakovací frekvencí 1 kHz a 100 Hz a výstupní energií řádově 100 mJ až 1 J.
Pro vyšší energie jsou zde dva 10 J a dva 50 J systémy beamlines založeny ...
LABORATOŘ
Je vyroben ze stabilizovaného mikro vosku, který je beze zbytku spalitelný. Stabilizované složení vosku umožňuje frézování
s vysokým výkonem frézy. Povrch výrobku je hladký a homogenní. Teplota tán...
Technické specifikace
nejmodernější laserové technologie pro základní výzkum a technologické aplikace. Jednou ze
zásadních technologií pro toto pracoviště jsou nové laserové zesilovače typu multislab, čerpané
laserovými...
8. Měření kinetiky dohasínání fluorescence v časové doméně
rostoucí popularita, pro některé aplikace nejpoužívanější detektor
problémem velmi malá aktivní plocha (typicky 10 µm x 10 µm)
FWHM pulsu od 20 ps